微波等離子清洗機去膠蝕刻設備

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產品名稱: 微波等離子清洗機去膠蝕刻設備

產品型號: GDR

產品展商: Guarder戈德爾

產品文檔: 無相關文檔

簡單介紹

等離子清洗機表面處理，能夠改善材料表面的潤濕能力，使多種材料能夠進行涂覆、涂鍍等操作，增強粘合力、鍵合力，同時去除有機污染物、油污或油脂

微波等離子清洗機去膠蝕刻設備 的詳細介紹

等離子清洗機去除電路板、外延片、芯片、環氧基光刻膠，所有的基材及復雜的幾何構形都可以采用等離子體清洗機去膠、活化、刻蝕、清洗、鍍膜。

等離子清洗機在半導體行業的應用：

芯片粘接前處理：去除材料表面污染物，增加表面潤濕性能，提升膠體流動性，保證與其他材料的結合能力

塑封前處理：去除材料表面污染物，使芯片表面與塑封材料結合牢固，減少分層與氣泡等**的產生

金屬鍵合前處理：去除金屬焊盤上的有機污染物，提高焊接工藝的強度和可靠性

光刻膠去除：去除殘留的光刻膠及其他有機物，活化和粗化晶圓表面，提高晶圓表面潤濕性等離子清洗機應用于LCD顯示屏與柔性薄膜電路提高材料表面能

微波等離子清洗機實現清潔、活化去膠、刻蝕功效
臺式微波等離子去膠機采用高密度2.45GHZ微波等離子技術，用于集成電路、半導體生產中晶圓的清潔去膠、硅片去除污染物和氧化物、提高粘接率，微波等離子體清洗、去膠機能夠對微孔、狹縫等細小的空間進行處理，具有高度活性、效率高，且不會對電子裝置產生離子損害。通過工藝驗證，微波等離子清洗機降低了接觸角度，提高了引線鍵合強度。
臺式微波等離子清洗機的相關應用
晶圓光刻膠清洗：晶圓在封裝前采用等離子清洗機處理能去除表面的無機物和污染物，氧化層還原，銅表面的粗糙度提高，產品的可靠性提高。
等離子清洗機器的應用包括預處理、灰化/光致抗蝕劑/聚合物剝離、芯片碰撞、靜電消除、介質蝕刻、有機污染去除、芯片減壓等。使用等離子清洗機不僅能去除光致抗蝕劑和其他有機物質，而且可以活化和增厚芯片表面，提高芯片表面的潤濕性，使芯片表面更有粘合力。